OPC Hack & Make Projectが「2015年度 グッドデザイン・ベスト100」を受賞しました

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この度、OLYMPUS OPC Hack & Make Projectが、2015年度グッドデザイン賞(主催:公益財団法人日本デザイン振興会)を受賞、さらに、審査委員会により特に高い評価を得た「グッドデザイン・ベスト100」に選ばれました。
OPC Hack & Make Projectは、本年度のグッドデザイン賞において、「オープンにすることで新しいユーザとの関係が生まれ、持続性の高いビジネスモデルが生まれるのかどうか、今後の展開に期待したい」と評価されました。

2015年度 グッドデザイン賞 応募概要

受賞対象名:オープンイノベーション活動 [OLYMPUS OPC Hack & Make Project]
事業主体名:オリンパス株式会社
分類:ビジネスモデル
グッドデザイン賞での紹介ページhttp://www.g-mark.org/award/describe/43203
概要:OLYMPUS OPC Hack & Make Projectは、オリンパスの技術をオープンにして、デベロッパーやクリエイター、企業や教育機関、そしてユーザーと共創しながら新しい写真体験を開拓していくオープンイノベーション活動です。 カメラをオープンプラットフォーム化することで、作り手であるメーカーと使い手であるユーザーの境目がなくなり、その先にイノベーションのヒントにつながる新しい写真体験やビジネスエコシステムが生まれると信じて活動を行っています。

審査員からのコメント
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製造業はものの品質だけで差別化することが難しい時代に突入し、ユーザと価値を共創するオープンイノベーションが注目されている。オリンパスのOPC Hack&Make Projectはその流れを汲んだものだが、カメラ業界において機密性の高いソフトウエア領域まで情報をオープンにしているところが、この取り組みへの真剣さを表しているようにみえる。今後、メーカーは自社だけで開発から販売まで完結することがますます難しくなるであろう。むしろ、いかにファンやユーザを巻き込んで、自分たちだけでは生み出せない価値を創造していくかが重要になり、こういった取り組みの成否が業績に影響を与えるようになる。特に、カメラという製品ライフサイクルの短い市場において、オープンにすることで新しいユーザとの関係が生まれ、持続性の高いビジネスモデルが生まれるのかどうか、今後の展開に期待したい。

グッドデザイン賞受賞展「グッドデザインエキシビション2015(G展)」に出展

本年10月30日(金)から東京ミッドタウンで開催される、最新のグッドデザイン全件が集まる受賞展「グッドデザインエキシビジョン(G展)」会場で、OPC Hack & Make Projectが本年度のベスト100受賞デザインとして紹介されます。

・会期:10月30日(金)〜11月4日(水)
・会場:東京ミッドタウン(東京都港区六本木)
・ウェブサイトURL:http://www.g-mark.org/meeting

グッドデザイン・ベスト100デザイナーズプレゼンテーションに出演
本プロジェクトを推進してきたオリンパス株式会社事業開発室 佐藤明伸がグッドデザイン・ベスト100デザイナーズプレゼンテーションに出演予定です。詳細は追って発表いたします。

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